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    徐飞与福尔曼打完电话，让二姐安排柯达科研人员，前往铁皮公司总部出差。

    随后找来tep学院校长刘鹤，商议开设半导体专业的事宜。

    该专业包含电子学、近代物理学、光电子学、量子电子学、超导电子学，以及半导体材料、数字应用、电磁场、信号控制和处理等等。

    整体已经超出专科院校的教学范围。

    但tep是中外合资高校，与麻省理工、波士顿大学、哈佛大学、徳国海德堡大学、汉堡大学等等，皆有交换生和科研合作。

    加上陆续网罗的物理学家、自产的材料学家、各级教授，众多tep五星级工程师。

    别说开设本科，即便开设硕士、博士，也只是一份文件的事。

    徐飞与梁主任沟通一番，以央企带头大哥-红旗汽车，参股tep学院的名义，从社科院请来几位老学长主持工作。

    然后把张潮阳调到tep大学-西校区，任校长，再把大型粒子对撞机项目、tep计算机服务公司地下分部、众多电子实验室，一起划过去，这事差不多就搞定了。

    紧接着，徐飞用2分钟时间，向tep大学投资方，tep集团、铁皮公司、通用汽车、大泽集团、雷飞科技，将以上人员举荐为“西校董事会”。

    而经过“西校董事会”长达8分钟的商议。

    第一批学员，将从社科院、工科院、国防科大、哈工大、上交大、西交大的在校生中，进行选拔，方便尽快展开半导体代工业务。

    第二批则在高考之前，按照tep招生办公室的规则，进行提前批招生考试，但今年的考场，将设置在供销微机室，采用随机派题，全程摄像，全程录音的方式进行。

    外企么，就是这么时髦。

    对应的，各级供销系统需要提前做好清理考场、准备监考等事务。

    一旦有不好的事情发生，将执行连带责任。

    在京城的娄楠楠，代替已经不能理事，却未离职的老太太，拟订赤字文件，先以理事会名义签字，再以监事会名义盖章，接着通知整个供销系统。

    “瞧咱这效率。”

    “果真是治世能臣。”

    徐飞搞定这些，用雷达通信一体c网络支持的加密视频会议，联系科学院比较熟悉的老学长，请对方给自己开一堂课，科普一番光刻机的原理和构造。

    不曾想，先前一系列操作，惊醒了顶头上司。

    而老学长们眼看办事能力极强，兜里又揣着无限科研经费的徐研究员，竟然对光刻机产生兴趣，当场来了七八位。

    于是，顶头上司旁听，九位老学长亲自教导，徐飞不得不端正态度，认真听讲。

    制造光刻机，是为了生产芯片。

    聊到芯片，要从计算机说起。

    当年人类造出第一台计算机，大约有三间房子大小。

    为了简化，陆续诞生了电子管计算机、晶体管计算机、中小规模集成电路计算机、大规模集成电路计算机。

    在这个发展过程中，计算机的体积不断缩小，能耗不断降低，运算速度不断加快，逐渐可以携带。

    所以，芯片的由来，是为了缩小电路，加快运算速度。

    而聊到电路，就要说一说模拟电路和数字电路，以及程序设计语言……

    徐飞睡醒一觉，发现老学长们，已经讲到光刻机。

    所谓的光刻机，跟福尔曼形容的差不多，就是一台“胶卷曝光机”。

    只是这台曝光机，十分先进，十分精密，从2寸底片，缩小到纳米级。

    因此，曝光用的“光源”，从灯泡缩小到激光，甚至射线、极紫外线。

    相应的，分辨率也从几百万，上升到几亿像素。

    胶卷的材质，扛不住这么集中的能量冲击，科学家便发明了“掩膜板”。

    然后用刻刀，把逻辑电路刻到“掩膜版”上，形成类似剪纸的“镂空”样式。

    犹如在a4纸上剪出一个“徐”字，贴在墙上，喷涂漆料，再揭走a4字，墙上便有了“徐”字。

    只是逻辑电路更复杂，就像在a4纸上写10万个“徐”，和写10亿个“徐”的难度，肯定不一样。

    不仅要缩小字体，还要缩小字与字之间的距离。

    这个距离，便是“制程”，目前最先进的为128纳米。

    刻画出“掩膜版”，等于纳鞋底有了鞋印子。

    接下来就是“曝光”。

    掩膜版上的线路，都是纳米级，若想让光线穿透的均匀，势必要用更细的“光”，才能穿过刻画出来的线路，以便再照片上形成图桉。

    因此，现在用的“光源”，叫极紫外线，也有的在用射线。

    跟柯达研究反应堆一个道理。

    当极紫外线穿过掩膜版的缝隙，照射到下方的照片，也就是“晶圆”，晶圆表面的光刻胶，就会出现一个逻辑电路的影子。

    然后光刻胶凝固，晶圆的第二层“氧化层”，则会出现一个逻辑电路的轮廓。

    这个过程叫“显影”。

    有了轮廓，接下来就是“刻蚀”。

    犹如把刚刚喷吐在墙上的“徐”字，抠出来，在墙上留下一个“凹”下去的“徐”，方便“电子”在里面移动。

    徐飞听得津津有味，眼看老学长不再讲，好奇道：“没了？”

    “没了，就这简单。”

    “那咱为啥造不出来？”

    “你回忆一下这个过程，刻画掩膜版、制造射线级光源、精准到纳米级的曝光，还要确保掩膜版和晶圆上下对齐，避免错位的纳米级校对，以及在刻蚀过程中，包括曝光过程中，由于刻刀和镜头保持不动，机器操纵晶圆动来动去，一会加速，一会急停，一会旋转，对刻刀精度，对电机振动幅度，对后台控制系统稳定性的种种要求。”
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